Tibco News, 30 iunie, guvernul olandez a emis cele mai recente reglementări privind controlul exporturilor de echipamente semiconductoare, unele mass-media au interpretat acest lucru ca controlul fotolitografiei împotriva Chinei a escaladat din nou la toate DUV.De fapt, aceste noi reglementări privind controlul exporturilor vizează tehnologii avansate de fabricare a cipurilor de 45 nm și mai mici, inclusiv echipamente de ultimă generație de depunere atomică ALD, echipamente de creștere epitaxială, echipamente de depunere cu plasmă și sisteme de litografie prin imersie, precum și tehnologia, software-ul utilizat să utilizeze și să dezvolte astfel de echipamente avansate.
Într-o declarație către Tibco, ASML a subliniat că noile reglementări ale guvernului olandez privind controlul exporturilor acoperă doar unele dintre cele mai recente modele DUV, inclusiv TWINSCAN NXT:2000i și sistemele ulterioare de litografie prin imersie.Litografia EUV a fost restricționată anterior, iar livrarea altor sisteme nu este controlată de guvernul olandez.Conform informațiilor site-ului oficial ASML, sistemul de litografie cu imersiune DUV, inclusiv: TWINSCAN NXT:2050i, NXT:2050i, NXT:1980Di trei mașini de litografie, acestea pot efectua procesare 38nm ~ 45nm proces de napolitană.
În plus, mașinile de litografie DUV uscată capabile să prelucreze plachete peste 45nm, cum ar fi procesul de 65nm~220nm, cum ar fi TWINSCAN XT:400L, XT:1460K, NXT:870 etc., nu sunt incluse în lista de sancțiuni olandeze.
Lista de control olandeză, după cum a fost tradusă de Tibco, este următoarea:
Regulamentul MinBuza.2023.15246-27 emis de Ministrul Comerțului Exterior și Cooperării pentru Dezvoltare al Țărilor de Jos prevede cerințe de licențiere pentru exportul de echipamente avansate de producție pentru semiconductori nemenționate anterior în Anexa I la Regulamentul nr. 2021/821 (referitor la semiconductori avansati echipamente de fabricatie)
Articolul 2: Acest regulament interzice exportul de echipamente avansate de producție de semiconductori din Țările de Jos fără permisiunea ministrului.
Articolul 3:
(1) Cererea pentru autorizația menționată la articolul 2 se face de către exportator și se depune procurorului.
(2) În orice caz, cererea trebuie să conțină:
a) numele și adresa exportatorului;
b) Numele și adresa destinatarului și utilizatorului final al echipamentului avansat de fabricare a semiconductoarelor;
c) Numele și adresa destinatarului și utilizatorului final al echipamentelor avansate de fabricare a semiconductoarelor.
3, în orice caz, procurorul are dreptul de a solicita exportatorului să furnizeze contractul de export, precum și o declarație privind utilizarea finală.
Articolul 4:
Licența descrisă la articolul 2 poate face obiectul unor condiții și prevederi.
Acordarea licenței descrise la articolul 2 poate exista cu calificări.
Articolul V:
Licențele menționate la articolul II pot fi revocate în următoarele cazuri:
a) Licența a fost eliberată pe baza unor informații incorecte sau incomplete;
b) Termenii, condițiile și restricțiile licenței nu au fost respectate;
c) Din motive de politică externă şi de securitate naţională.
Ora postării: Iul-02-2023